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真空電鍍：Vacuum Metalizing，即是物理氣相沉積（PVD），即在真空下將原子打到靶材表面上達到鍍膜的目的。最早運用于光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片，后來隨著技術的改進，延伸到了唱片、磁盤、光盤、手機外殼、機械刀具等材料上的裝飾鍍膜、材料表面改性等。

工藝特點

適用材料

幾乎所有金屬、合金、及陶瓷材料。

1. 自然材料會影響真空環境，不適合真空電鍍。

2. 除了自然材料以外，適合真空電鍍的材料包括金屬類材料、軟硬塑料（ABS料、ABS+PC料、PC料等等）、復合材料、陶瓷、和玻璃等。

3. 最常用于真空電鍍表面處理的是鋁、其次是銀和銅。

應用領域

真空蒸發應用領域

真空濺射應用領域

真空離子鍍應用領域

設計考慮因素

1. 真空電鍍所使用設備通常較為高昂，加上工藝流程復雜，對環境要求高；為此真空電鍍單價比水電鍍昂貴。
   

2. 真空電鍍受設備內真空環境體積影響，因此對靶材尺寸有一定的要求，不適合大靶材，常見的真空腔室內靶材應小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3D工件應小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）

3. 真空電鍍的工件表面必須保持干燥、光滑，否則會影響處理效果。

4. 真空電鍍可鍍色彩豐富，可以鍍7色，比水電鍍的顏色要豐富，可達到陽極鋁、亮鉻、金、銀、銅和炮銅（一種銅錫合金）等豐富多彩的效果。水電鍍一般只有鍍銅（紅色），鍍鎳（偏黃的銀色），鍍金，鍍銀，鍍槍（黑色，有深黑，淺黑等），鍍鉻（銀白色）等單調色彩。

5. 真空電鍍是最常見的金屬表面處理技術。

工藝成本

真空電鍍工藝流程復雜，非常依賴人工操作。工件（靶材）需要噴涂、裝卸、再噴涂，并且也取決于工件的復雜度和數量，所以人力成本很高。

環境影響

真空環境下輻射小、環境污染小，真空電鍍現為各行業中廣泛應用。