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真空鍍膜時(shí)為什么要用到高純氣體?

來源:長(zhǎng)辰實(shí)業(yè)  日期:2022-01-14

在真空離子鍍膜中,所選用不同氣體所生產(chǎn)出來的,液態(tài)氣體色澤也會(huì)不一樣,氬氣一般用作創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境鍍鈦和鉻時(shí),工業(yè)氣體充入氮?dú)饪缮a(chǎn)出銀色和黃色的產(chǎn)品而想要生產(chǎn)出黑色或灰色的產(chǎn)品,則需要加入乙炔氣體加入氧氣則生產(chǎn)藍(lán)色的產(chǎn)品。除了氣體外所生產(chǎn)出的產(chǎn)品顏色還受壓力、溫度、時(shí)間等條件影響。

真空電鍍是利用的什麼原理?

在高真空度的條件下,高純度的鍍層金屬(如鋁)在高溫下蒸發(fā)后會(huì)自由地飛散開并沉降在工件表面,形成鍍層。氬氣為保護(hù)性氣體,防止氧化反應(yīng)影響鍍層質(zhì)量。

氬氣在電鍍過程中有何用?

氬氣不參與反應(yīng),只是增加氣壓,改善鍍膜時(shí)靶的放電條件,氬氣不是用于鍍膜,主要用于創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境。氮?dú)夂蜌鍤舛际嵌栊詺怏w,沖進(jìn)去以后,一 可以排除氧氣,防止氧化,二更具氮?dú)夂蜌鍤庠跀U(kuò)散泵內(nèi)的含量比例不同,可以鍍膜出不同的顏色.主要是為了改變鍍膜出來產(chǎn)品的色彩.

真空鍍膜行業(yè)中,氬氣的流量大小具體如何控制?

如果是說鍍膜時(shí)為了調(diào)節(jié)壓力使用的氣體 個(gè)人認(rèn)為如下:氬氣如果只是調(diào)節(jié)壓力,一次壓可以不計(jì),但是二次壓要小于0.5個(gè)大氣壓。氮?dú)庖彩牵饕且驗(yàn)槿绻罅耍瑫?huì)導(dǎo)致真空倉(cāng)內(nèi)的壓力變化太劇烈,導(dǎo)致誤差。如果是使用離子源,那么氬氣入氣量不宜過大,大了導(dǎo)致離子量過大,燒壞部件。壓力和上邊沒什么差別。

任何固體材料在大氣環(huán)境下都會(huì)溶解和吸附一些氣體,當(dāng)材料置于真空狀態(tài)時(shí)就會(huì)因?yàn)槊摳健⒔馕龆鰵狻3鰵獾乃俾逝c材料中的氣體含量成正比。不同的材料解析的氣體成分及解析的溫度及時(shí)間是不同的。

各種泵對(duì)不同成分的氣體抽氣速率也是不一樣的。抽真空時(shí),首先抽走的是容器中的大氣(這部份氣體很快被抽走,10-1Pa時(shí)爐內(nèi)氣體基本抽盡),然后是材料表面解吸的氣體、材料內(nèi)部向表面擴(kuò)散出來的氣體,以及通過器壁滲透到真空中的氣體.因此在貨品進(jìn)入爐內(nèi)之后,都要進(jìn)行保溫除氣,因?yàn)樨浧吩谶M(jìn)爐前會(huì)吸附一些雜質(zhì)氣體,我們要通過適當(dāng)?shù)募訜幔屵@些氣體解析脫附貨品的表面。以不銹鋼為例,除了在它表面吸附的氣體之外,在不斷的加熱保溫過程中鋼內(nèi)部還會(huì)析出一些氣體,這些氣體的存在往往對(duì)薄膜的純度和顏色有較大的影響,對(duì)膜層附著力影響也很大。

因此真空鍍膜機(jī)鍍膜時(shí),膜層的好壞,氣體啟著關(guān)鍵性的作用,是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。

PVD鍍膜涂層常用置配:

彩色系膜層和常規(guī)色膜層最大的區(qū)別就是C值和H值,所以可以說,黑色也是彩色系膜層。

鋯+氮?dú)猓狐S綠調(diào)金黃色

鋯+甲烷:深淺黑色

鋯+氧氣:白色、透明膜

鋯+氮?dú)猓淄椋航鹕⒎旅倒褰?/span>


鉻+甲烷:深淺黑色

鉻+氮?dú)猓簻\黑色

鉻+氮?dú)猓淄椋恒y灰色

鉻+氧氣:輕黃色、紫色、綠色


SUS+氧氣:紫色

SUS+氮?dú)猓核{(lán)色


SUS+甲烷:亮黑色


SUS+甲烷+氮?dú)猓核{(lán)黑色


硅+氮?dú)猓汉谏?/span>


硅+氧氣:混濁白、透明膜


硅+甲烷:黃色、綠色、藍(lán)色、黑色(靶材純度高于99%僅能調(diào)黑色)


鈦+氧氣:光學(xué)膜七彩截色,不多介紹都懂。


鈦+甲烷:深淺黑色( DLC制備不能達(dá)標(biāo))


鈦+氮?dú)猓悍陆鹕ⅫS銅色、紫色、紅色


鈦+氮?dú)猓淄椋悍旅倒褰稹⒑诰G色、復(fù)古黃、棕色、紫色


鎢+氮?dú)猓鹤攸S色


鎢+甲烷:深淺黑色


鎢+氧氣:紫色,鮮黃色,棕色,藍(lán)色


以上僅裝飾薄膜常用材料及其常用氣體,通常甲烷和乙炔都可互替,但涉及部分顏色甲烷效果更好。除以上常用材料外,


金屬靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等,均有在鍍膜中使用。多質(zhì)靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、硅鋁、釩錸、鎢鉬等。


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