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1、鍍金屬膜層,將待鍍產品傳入裝有金屬靶材的鍍膜腔室,開啟泵抽真空及加熱裝置進行基底加熱,使得本底真空達到1×10-3Pa 及達到80-150℃工藝溫度后,向腔室通入10-1000sccm的氬氣,啟動濺射電源,設置濺射功率1-15KW,鍍膜時間10-300S,得到厚度為1-100nm的金屬膜層,金屬膜層為銅(Cu)、銀(Ag)、鋁(Al)、鉻(Cr)等金屬膜層,或鎳銅(NiCu)、鎳鉻(NiCr)等合金膜層;

2、鍍低折射率膜層,將鍍完金屬膜層的產品傳入裝有可形成低折射率膜層的靶材鍍膜腔室,加熱達到80-150℃的工藝溫度,向腔室通入工藝氣體,設置濺射功率1-15KW,鍍膜時間1-300S,得到厚度為1-100nm的低折射率膜層,此低折射率膜層為氧化硅、氮化硅等膜層;

3、鍍高折射率膜層,將鍍完低折射率膜層的產品傳入裝有可形成高折射率膜層的靶材鍍膜腔室,加熱達到80-150℃的工藝溫度,向腔室通入工藝氣體,設置濺射功率1-15KW,鍍膜時間1-300S,得到厚度為1-100nm的高折射率膜層,所述高折射率膜層為氧化鈦、氮化鈦、氧化鋯、氮化鋯、氧化鈮、氮化鈮、氧化鋅、氧化銦、氧化鋁、氧化鐵、氧化鉻、氮化鉻等膜層,此高低折射膜層的工藝氣體為Ar、N2、O2中的至少一種,其中Ar氣體流量為10-1000sccm,N2氣體流量為10-1000sccm,O2氣體流量為10-1000sccm;

4、重復步驟二和步驟三數次,得到不同顏色的膜層,重復步驟二和步驟三的次數為1-100次.