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PVD工藝你了解多少呢?

來源:長辰實業(yè)  日期:2019-07-05

真空涂層技術的發(fā)展 


一、真空涂層技術起步時間不長,國際上在上世紀六十年代才出現(xiàn)將CVD(化學氣相沉積)技術應用于硬質合金刀具上。由于 該技術需在高溫下進行(工藝溫度高于 1000oC),涂層種類單一,局限性很大,因此,其發(fā)展初期未免差強人意。 


二、到了上世紀七十年代末,開始出現(xiàn) PVD(物理氣相沉積) 技術,為真空涂層開創(chuàng)了一個充滿燦爛前景的新天地,之后在短短的二、三十年間PVD 涂層技術得到迅猛發(fā)展,究其原因,是因為其在真空密封的腔體內成膜,幾乎無任何環(huán)境污染問題,有利于環(huán)保;因為其能得到光亮、華貴的表面,在顏色上,成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色,可謂五彩繽紛,能夠滿足裝飾性的各種需要;又由于 PVD 技術,可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復合涂層,應用在工裝、模具上面,可以使壽命成倍提高,較好地實現(xiàn)了低成本、高收益的效果;此外, PVD 涂層技術具有低溫、高能兩個特點,幾乎可以在任何基材上成膜,因此,應用范圍十分廣闊,其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學氣相沉積)等新技術,各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮,如今在這一領域中,已呈現(xiàn)出百花齊放,百家爭鳴的喜人景象。 


三、與此同時,我們還應該清醒地看到,真空涂層技術的發(fā)展又是嚴重不平衡的。由于刀具、模具的工作環(huán)境極其惡劣,對薄膜附著力的要求,遠高于裝飾涂層。因而,盡管裝飾涂層的廠家已遍布各地,但能夠生產工模涂層的廠家并不多。再加上刀具、模具涂層售后服務的欠缺,到目前為止,國內大多數(shù)涂層設備廠家都不能提供完整的刀具涂層工藝技術(包括前處理工藝、涂層工藝、涂后處理工藝、檢測技術、涂層刀具和模具的應用技術等),而且,它還要求工藝技術人員,除了精通涂層的專業(yè)知識以外,還應具有扎實的金屬材料與熱處理知識、工模涂層前表面預處理知識、刀具、模具涂層的合理選擇以及上機使用的技術要求等,如果任一環(huán)節(jié)出現(xiàn)問題,都會給使用者產生使用效果不理想這樣的結論。所有這些,都嚴重制約了該技術在刀具、模具上的應用。 


四、 另一方面,由于該技術是一門介乎材料學、物理學、電子、化學等學科的新興邊緣學科,而國內將其應用于刀具、模具生產領域內的為數(shù)不多的幾個骨干廠家,大多走的也是一條從國外引進先進設備和工藝技術的路子,尚需一個消化、吸收的過程,因此,國內目前在該領域內的技術力量與其發(fā)展很不相稱,急需奮起直追。


五、PVD (Physical Vapor Deposition) 即物理氣相沉積,分為:真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜 ,指的就是真空離子鍍膜;通常說的NCVM鍍膜,就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。


六、真空蒸鍍基本原理:在真空條件下,使金屬、金屬合金等蒸發(fā),然后沉積在基體表面上,蒸發(fā)的方法常用電阻加熱,電子束轟擊鍍料,使蒸發(fā)成氣相,然后沉積在基體表面,歷史上,真空蒸鍍是PVD法中使用**的技術。


七、濺射鍍膜基本原理:充氬(Ar)氣的真空條件下,使氬氣進行輝光放電,這時氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar ),氬離子在電場力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會被濺射出來而沉積到工件表面?!R射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在l0-2Pa~10Pa范圍,所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運動方向隨機,沉積的膜易于均勻。


八、離子鍍基本原理:在真空條件下,采用某種等離子體電離技術,使鍍料原子部分電離成離子,同時產生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下,離子沉積于基體表面形成薄膜。


九、離子鍍的工藝過程:蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。


十、離子鍍的作用過程如下:蒸發(fā)源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發(fā)源與工件之間產生輝光放電。由于真空罩內充有惰性氬氣,在放電電場作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發(fā)源交流電源,蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),進入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡單作用過程。

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